產品目錄
-
工業(yè)器材
- 日本ENDO遠藤
- 日本azbi山武
- 日本KOSMEK考世美
- 日本BL必愛路
- 日本SGK昭和技研
- 日本JST日壓
- 日本Nidec尼得科
- 日本SANKO三高
- NS日本科學
- 日本TOKI東機產業(yè)
- 日本ITOH伊藤制作所
- 日本DRY-CABI東利...
- 日本REVOX來寶克斯
- 臺灣CHELIC氣立可
- 日本NPM日脈
- SEN日森
- 日本HORIBA堀場
- 日本NITTO-KOHK
- 日本NBK鍋屋
- 日本NMR
- 日本EYE巖崎
- 日本MUSASHI武藏
- 日本DENSO
- 日本SURE石崎電機制作...
- 日本KURITA栗田
- 日本SAKAGUCHI坂...
- 日本HAKKO八光
- 日本IZUMI 泉精器製...
- 日本IMAO今尾
- 日本JUST
- 日本SUNX神視
- 日本METROL美德龍
- 日本Meiki
- 日本YAMARI山里
- 日本OKAZAKI 岡崎
- 日本TANIGUCHI谷...
- 日本NPM
- 日本EYELA東京理化
- DNK大日本科研
- 日本YOKOHAMA橫濱
- 日本EINS
- 日本ACCRETECH東...
- 環(huán)境設備
- 測量儀器
- SMT設備
- 物料運輸
- 切削工具
- 化學用品
- 作業(yè)工具
產品詳情
簡單介紹：
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
詳情介紹：
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
實現PDP用世界*大基板(42英寸16面)均勻曝光的近接曝光機。
特長：
支撐高精度的獨自技術
<光學間隙傳感器> 在非接觸的條件下,高速度和高精度地設定近接間隙。
<高速圖像處理技術> 掩膜以及掩膜與基板的高精度對位。
穩(wěn)定搬送
直立配置掩膜臺和基板臺,不需要補正因掩膜和掩膜臺以及基板臺的自身重量而造成的彎曲變形。
無塵措施
在無塵化要求更加嚴格的CF用曝光裝置等的經驗和設計的基礎上,采取了減少驅動部微粒子發(fā)生及考慮到氣流的無塵對策。
相關產品
